半导体芯片加工废水怎么处理|半导体芯片加工废水如何处理
項目背景图片
该半导体技术企业主坐落在长角形地区划分,重要加工85英尺和125英尺晶圆,日废气进行排放废储水量约2000吨。因加工加工麻烦,废硫酸铜溶液有多难降解塑料有机的物和血本属化合物,民俗治疗方案无从实现愈发非常严格的废气进行排放基准。
污废水 成分表及起源
污化工污水 注意来自于十个基本原则:晶圆切工污化工污水 包具有大量硅粉和切工液农药残留;普通机诫机诫打蜡 污化工污水 具有悬浊液硅和机磨颗粒剂;刻蚀清晰污化工污水 包具有氟化物、铜正离子等高价属;光刻加工过程污化工污水 则包具有光阻剂等有机质环境污物。水污染作用是COD高(800-1500mg/L)、氟化物溶液浓度高(200-400mg/L)、浮动物多且包具有微量分析高价属。
补救工艺技术流程步骤
运用"物理预操作+生物化操作+深浅操作"的搭档加工过程:
自动调节池均匀水质监测发电量
混疑积淀清掉浮动物和悬浊液元素
普通机械奠定自己法专业加工处理氟化物,加药系统钙盐成型氟化钙奠定自己
油脂水解酸性反应池提升工业废水可什么是生化性
碰到氧化的池挥发巧妙污染问题物
几丁质酶炭降解塔实现的深度除理
膜分离法系統抓实满水后饮用水质维持
争对含铜生产废水随便安装正离子互转设计,回收公司有市场价值的轻金属铜。
最中使用效果
产品修建后正常运行不稳定性,喷水COD<50mg/L,氟化物氧浓硫酸浓度<5mg/L,铜化合物氧浓硫酸浓度<0.3mg/L,某项的指标均远低于一个国家《電子实业水生态破坏物摆放标准规范》(GB 39731-2020)。几乎每年可限制COD摆放约300吨,氟化物摆放约50吨,回收并铜材料约2吨,实现了了的环境国家经济收益与国家经济国家经济收益的共盈。