高性能光电材料废水怎么处理|高性能光电材料废水如何处理
该各个企业公司是国内的顶尖的LED集成电路芯片制做商,生产加工过程中 中存在一大批含血本属、有机酸萃取剂及高溶液酸度挥发酚的生活污水。主要是因为生活污水基本成分简化且污染破坏物溶液酸度高,传统的治疗方法步骤得以不合格释放,各个企业公司急缺五套高效率、不稳定性的生活污水治疗系统软件。
化工废水基本成分及由来
蚀刻废水处理工艺
:含铜、镍等天价属铝离子,pH值起伏大。
有机质污水
:根据光刻胶拆洗加工过程,含异丙醇、异丙醇等有机的萃取剂,COD自由高达5000mg/L大于。
氟化物废渣
:原于药剂学气质联用岩浆岩(CVD)艺,氧化还原电位有机废气浓度高出800mg/L。
清理工艺技术程序流程
预加工过程
调池
:均衡化饮用水质水流量,减低冲洗载荷。
物理化学水解
:加药NaOH调试pH至9-10,使高价属形成了氢腐蚀物沉淀出的,弄掉率>95%。
生化模式加工周期
活性污泥碱化
:拆解分子结构设计物,提生污废水 可生物化学性。
A/O施工工艺
(活性污泥法-好氧搭档):用于高水解酸化-反水解酸化枝术,化学需氧量彻底清除率>98%。
广度清理阶段中,
吸出性炭吸出
:进一大步剔除残存生物碳物,加强组织领导COD<50mg/L。
膜过滤清洁
(UF+RO):推动污水回收,回收率>70%。
之后郊果
留水饮用水质到《脏水基础性废气排放基准》(GB 8978-1996)6级基准。
巨资属的含量降至0.5mg/L,COD<50mg/L,氧化还原电位<5mg/L。
每次以减少废气排放出量约30万吨,使用水适用生產线除垢生产工序,节约使用成本费约15万元/年。