该晶圆研发厂坐落在华北东南部，重点产出89英寸半导体设备晶圆，每日废液排卸量约800吨。是由于产出时候中操作巨大氢氧化钠确定晶圆蚀刻，使得废液中氟化物质量浓度高达到200-300mg/L，远超地区排卸规则（10mg/L下例）。 废液含量及源 废水处理方法首要发源几个原则： 晶圆蚀刻生产工艺 ：含高酸度氟化物（HF）、硝酸钠及少许高价属 普通机械设备机械设备cnc精密机械加工（CMP）废渣 ：含纳米技术级硅颗料、有机物络合剂 机 的清洗废液 ：含异丙醇、挥发酚等有机酸物 进行处理施工工艺操作流程 主要包括"药剂学结晶+混凝土结晶+深度1过滤装置"三级职业资格证书治疗设备： 一级通过成绩加工处理 ：加药氯化钙和氢氧化物钙，建立氟化钙沉淀物中，氟化物避开率达85% 特殊处置 ：填加PAC（配位聚氯化铝）和PAM（PP酰胺），除掉悬浊液态污染破坏物 三阶段处里 ：完成多物料油烟净化器器和化学活化炭离心分离，有水出氟化物酸度固定在8mg/L左右 要点机械涉及：pH全自动调节器软件系统、斜管沉淀自己池、板框飞灰压滤机（飞灰脱水等）。 进而郊果 顶目运动四年监控数据文件体现： 氟化物均匀渗透压：7.2mg/L（低过部委规范标准） COD除去率：92% 生活污水含水分率：≤65% 年环保再生资源英文回收氟化钙副厂品约150吨，保证资源英文化充分利用