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半导体生产废水处理案例|半导体生产废水处理方法

投资项目情况 该半导体设备制作工作座落在豫东沿海地区,总投资费用超过了200亿港元,主耍产出129英寸晶圆和比较好的装封品牌。工作日摆放废排水量约5000吨,涉及多种类鑫霖环保化工化工废水,处置困难程度大。工作请求化工化工废水处置后到达《光电子工業水污染源物摆放标准单位》(GB 39731-2020)非常摆放卫生防护距离,那部分回收利用率不降至60%。 工业废水营养成分及源头 含氟生活污水:通常出于晶圆蚀刻、清晰加工过程,氟亚铁离子氨水浓度达200-500mg/L,pH值波动性大 充分质化工废水:光刻、显影液、去胶等繁琐流程呈现,COD溶度300-800mg/L,包含异丙醇、二甲苯等充分质石油醚 含铜焦化废水:电镀层、化学物质机械设备制造抛光剂(CMP)工艺流程造成,铜阳离子质量浓度50-150mg/L 碱酸废渣:专用设备除污、印刷废气洗衣机清洗等环节诞生,pH值在2-12左右振幅 研磨设备焦化废水:CMP程序诞生,包含奈米级二硫化硅小粒 治疗技术程序 主要包括"分类别提取+分质清理+角度活性炭过滤"的組合生产工艺: 含氟废水处置工艺处置线 : 两极化学上发展:先加药氯化钙调准pH至6-7,加个入PAC和PAM水解酸化池发展 生物钝化铝树脂吸附:抓好氟阳离子氧浓度降为5mg/L之下 厌氧颗粒污泥经板框压滤后代为专业化应对 有机酸废液治疗线 : 微电解法设备归一化处理:铁碳微电解法设备分解大原子核生产物 UASB厌氧发酵体现器:HRT=24h,COD清除率>60% MBR膜微生物不良流化床反应器:使用PVDF双层玻纤膜,通量15LMH 含铜废渣清理线 : 化学上积淀:污泥脱水NaOH调准pH至9-10,进行Cu(OH)2积淀 铝亚铁离子传递:有级树脂胶传递保持铜铝亚铁离子<0.3mg/L 电解抛光抛光出售并:一些焦化废水经电解抛光抛光出售并黑色金属铜 全方位的除理系統 : 调接池:义均土质水流量,设水解酸化池搅拌器 水泥混凝土放置:污泥脱水混合斜板沉淀池剂除去橡胶胶体部分化学物质 臭氧老化催化剂的作用氧化反应:吸附难吸附设计物 反浸入系统性:脱盐率>98%,产水回收利用于种植线 厌氧颗粒污泥处里软件系统 : 活性污泥溶缩池:混合物氧浓度从1%提高至3% 离心力过滤:加进PAM调治,泥饼水分含量率<75% 冷藏干化:一部分飞灰干化至含水分率30%有以下 最后功能 创业项目起建全自动运行后,多种指标体系稳定可靠未达标:氟化物<5mg/L、COD<30mg/L、铜亚铁离子<0.3mg/L、pH 6-9。回收水水质监测系统高于GB/T 19923-2005化学工业用清水规范标准,回收率65%,每季度节省生鲜水消耗量约140万吨。废水生产量变少40%,产生废弃物应对费用削减35%。设备全工控设备方面高,线下监测系统数据源与环保健康职能部门实时路况连接网络。

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