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半导体含氟废水处理案例|半导体含氟废水处理方法

的项目环境 该半导体器件制做品牌是在华南中北部,通常加工一体化电路操作系统IC芯片,日的摆放含氟电镀污废水 约800吨。会因为立即低能耗标从而提高,同一加工配制没有办法需要满足氟化物的摆放盐浓度少于5mg/L的新规定要求,品牌交易11000万元修建非常专业含氟电镀污废水 加工操作系统。 废液材质及源头 焦化废水重要因素于鑫霖环保芯片制造出时中的刻蚀制作工艺和拆洗制作工艺,重要环境污染源涉及: 氟正离子盐浓度:300-800mg/L pH值:2- 具有一些硅酸盐、磷酸 微量分析血本属如铜、镍等 治理鑫霖环保程序流程 用于"预除理+普通机械水解+的深度除理"组合公式新工艺: 的调节池:平衡水体质量出水量,設置pH再线数据监测 七级现象池:加药氢脱色钙,操纵pH至7-8,建成氟化钙凝固 1阶段发展池:发展破乳氟化钙工业废水 一级作用池:加药氯化钙和缩聚氯化铝,进步骤的还原残留氟铝离子 三次凝固池:三次凝固分离法 砂滤系统性:删去悬停物 亲水性炭吸附剂:彻底清除有机化学物和进样器血本属 工业废水治理 治理 系统的:板框压滤脱水器,工业废水治理 含水分率低于60%以下的 最终能够作用 体统运作安全后,出水出水水质检测: 氟阳离子有机废气浓度:2.1-3.8mg/L pH值:6.5-7. SS<5mg/L 高价属含水量均压低排除限 是完全做到《电子厂鑫霖环保水影响物直接直接排污标准化》(GB39731-2020)规范要求,年缩减氟化物直接排污约180吨。

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